蚀刻(etching)是使用化学反应或物理撞击作用而移除部分材料的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。

2021年12月23日 · 蚀刻是一种利用化学强酸腐蚀、机械抛光或电化学电解对物体表面进行处理的技术。除了增强美感之外，它还增加了对象的附加值。从传统的金属加工到高科技半导体制造， …

2022年4月8日 · 什么叫蚀刻，通常所指的是光化学蚀刻，指通过制版曝光、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时使金属接触化学溶液，使用两个阳性图形通过从两面的化学研磨达到 …

2024年5月9日 · 2.蚀刻：将被加工材料浸入蚀刻液或暴露在气体环境中，让化学物质逐渐侵蚀或蒸发材料表面。 这可能是湿法蚀刻（使用液态蚀刻剂）或干法蚀刻（使用气体或 等离子体 ）。

2025年2月12日 · 蚀刻工艺能够实现高精度的图案、 文字和形状加工， 适用于各种金属材料， 如不锈钢、 铝、 铜等。 2. 蚀刻工艺的主要步骤有哪些？ 蚀刻工艺的步骤主要包括：

蚀刻工艺的原理是利用化学溶液或等离子体对材料表面进行加工，从而实现微纳米级的结构加工。本文将介绍蚀刻工艺的原理及其在微纳加工中的应用。 蚀刻工艺的原理主要包括化学蚀刻和 …

2025年2月10日 · 湿蚀刻：是一种利用化学溶剂来溶解蚀刻金属材料的方式，具有高选择性、高蚀刻速率和低设备成本的特色，湿蚀刻不仅可以在垂直方向蚀刻，还有水平蚀刻的效果。

2024年7月9日 · 湿式蚀刻主要利用化学溶液与材料表面发生化学反应，达到蚀刻目的；而干式蚀刻则通过高能束（如激光、离子束等）对材料表面进行物理轰击，实现蚀刻效果。

控制蚀刻深度：通过调节蚀刻时间、化学试剂浓度或能量参数（如等离子体功率），精确控制材料被去除的厚度。 选择性保护：使用光刻胶或硬掩模（如SiO₂、SiN）遮盖不需蚀刻的区域，仅 …

2024年11月4日 · 蚀刻设备的主要特点是在蚀刻工艺中会产生等离子体，首先见上图的左侧显示，使用光刻工艺在要蚀刻的材料上形成一个抗蚀剂图案。 这种抗蚀剂也作为蚀刻工艺的掩 …